WebCCP型プラズマエッチング装置 高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する平行平板型エッチング装置。超大規模集積回路（ULSI）のSiO2コンタクトホールやSiOCH, 有機系材料による低誘電率薄膜（low-k)エッチングに使用する。 特徴 プロセスガスからラジカルを選択的に生成 低電子温度、高密度プラズマが得られる60MHzパワーを上部電極に印 … WebCCP는 두 전극을 평행하게 위치시켜서 플라즈마를 생성하는 공정이다. 하지만 패턴이 미세해지는 scale down으로 인해 현대 반도체 시장에서 CCP의 한계가 나타난다. ① Ion 밀도와 Ion Energy를 독립적으로 조절하지 못한다 : 우리는 Ion의 밀도를 증가시켜서 Etch Rate를 증가시켜야하고 Ion Energy를 감소시켜서 기판에 Damage를 …

プラズマの特性物理量 - t-shirafuji

WebThe Plasma Module includes a specialized numerical method for modeling CCP with significantly faster computation times than traditional methods. Instead of solving in the time domain, the periodic steady-state solution … http://www.jspf.or.jp/JPFRS/PDF/Vol8/jpfrs2009_08-0587.pdf read together cartoon

National COVID-19 Convalescent Plasma Project

Web低密度プラズマで一般的なものが、容量結合型プラズマ（CCP）で、太陽電池に代表されるアモルファスシリコン用プラズマCVDなどに利用されています。 幅広く利用されている反面、成長速度が遅い、サイズ限界がある、パーティクルが多い、といった点が課題です。 一方、高密度プラズマには、表面波プラズマ（SWP）や誘導結合型プラズ … WebICPプラズマ の特徴は、プロセスチャンバー上部、セラミックプレートに、誘導コイルを 渦巻き状に配置する ICP インダクティブコイルに、13.56 MHz の高周波電力 を供給する。 下部電極には、380 kHz から 13.56 MHz を供給する、下部電極 を制御することにより、イオンエネルギーを制御する。 大型の電磁コイルを 用いないで 1 Paの低圧で、10 11 cm … how to store curtain lights